Tecnologia semi-condutora ZEISS a bordo

Se alguém munido do know-how contemporâneo se debruçasse sobre a altura em que Carl Zeiss e Ernst Abbé fundaram a empresa, veria que a óptica de precisão teria sido uma tecnologia fulcral.

Os limites das possibilidades na investigação fundamental foram gradualmente ultrapassados. Por conseguinte, os métodos de fabrico necessários para essa investigação, e os instrumentos ópticos necessários para esses métodos foram, também, mais desenvolvidos para acompanhar esta evolução. A Carl Zeiss estava e está na vanguarda.

A necessidade crescente de armazenar mais informação em suportes mais reduzidos, em conjunto com as velocidades mais elevadas de transmissão de dados para qualquer local possível, leva a indústria da microelectrónica a usar componentes cada vez mais compactos, com estruturas mais diminutas.

Os chips têm estruturas com dimensões na gama dos 100 nm (= um décimo de um micrómetro). Não se prevê um fim para este desenvolvimento. No campo da produção em série de microchips, que apenas foi possível com o auxílio dos sistemas ópticos da ZEISS, a qualidade e o controlo do processo, em particular, devem acompanhar este desenvolvimento.

O controlo é importante…
pois quando os erros do retículo surgem durante a exposição e são transferidos para os chips de produção em série, isto, obviamente, é sinónimo de funções defeituosas em massa. Não se imagina o significado, a nível de custos e produtividade, da não detecção de um erro antes do fabrico de alguns milhares de chips inutilizáveis.

Por esta razão, é necessária a capacidade de localizar e eliminar erros numa fase inicial. Quanto mais pequenos e poderosos forem os chips, mais importante é a capacidade de inspeccionar os seus retículos, com intensidade suficiente, para verificar anomalias antes de os usar em produção em massa. Isto ocorre com lentes de desempenho elevado.